Projekt: Hevel Energy Group
Лазерная очистка поддонов от ITO (оксид индия - олова - один из наиболее часто используемых прозрачных токопроводящих материалов при производстве дисплеев, сенсорных экранов или фотовольтаики.
О компании
Компания «Хевел» была основана в 2009 году ГК «Ренова» и ОАО «Роснано» для производства солнечных панелей и постройки объектов солнечной энергетики. Производство располагается в городе Новочебоксарск и является крупнейшим заводом полного цикла по производству фотоэлектрических модулей на территории России. Весной 2015 года завод вышел на проектную мощность, в июле 2017 года в результате модернизации производство солнечных модулей удвоилось до 160 МВт в год. В 2018 на заводе были завершены работы по подготовке к расширению производственных мощностей до 260 МВт. В настоящее время на предприятии трудится более 600 специалистов.
Задача и цель
В связи с возросшими объемами производства возникла необходимость в дополнительном оборудовании для очистки технологических приспособлений. Рассматривались два способа очистки ультразвуковой и лазерный. В результате выбор был сделан с пользу лазерной очистки благодаря ее экономической эффективности, экологичности и мобильности.
Система лазерной очистки предназначена для бесконтактного удаления тонкого слоя оксида индия-олова (ITO), который осаждается на поверхности паллет из нержавеющей стали в ходе магнетронного напыления (PVD). Паллеты служат для размещения кремниевых пластин в ходе производства фотоэлектрических модулей при нанесении электропроводящего слоя. Очистка должна происходить без нарушения морфологии поверхности паллет и уменьшения их толщины. Кроме того, оборудование должно позволять бесконтактно очищать поверхности различных материалов от ржавчины, краски, жира и других видов загрязнения.
Конструктивные требования
Система лазерной очистки должна быть мобильной и включать следующие основные части:
- Лазерную установку мощностью 500 Вт с регулируемой длительностью импульса от 30 нс до 100 нс;
- Оптическое волокно 10 м;
- Лазерную головку с автоматической настройкой фокусного расстояния от 100 мм до 180 мм;
- Программу управления;
- Мобильную панель управления;
- Система управления через сенсорный экран с доступами (оператор, администратор, сервис);
- Сертифицированные защитные очки для лазерной резки;
- Комплект расходных материалов;
- Промышленный пылесос для удаления продуктов очистки.
Спецификация
Система лазерной очистки MADETRON.CZ TRON 500W
Промышленный пылесос Sibilia SM2
Результат:
После выполнения монтажных и пуско-наладочных работ были проведены испытания система лазерной очистки на предмет достижения гарантированных показателей по скорости и качеству очистки.
В сравнении с существующей ультразвуковой установкой:
- существенно сократилось энергопотребление;
- снизилось количество подготовительных мероприятий (предварительный монтаж – демонтаж отдельных частей) и как следствие сократилось общее время, затрачиваемое на очистку оборудования;
- уменьшились затраты на утилизацию продуктов очистки;
- повысилась экологическая безопасность работ.
Образующийся в ходе очистки дым удаляется с помощью промышленного пылесоса SM2, подключенного к лазерной головке.
В дальнейшем предполагается роботизировать процесс очистки и встроить ее в технологическую линию по производству фотоэлектрических модулей.